磷化铟基窄脊波导半导体激光器的制备方法
杨涛 许峰 罗帅 高凤 季海铭 · 2016
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专利权人:
中国科学院半导体研究所
申请人:
中国科学院半导体研究所
通讯地址:
100083北京市海淀区清华东路甲35号
专利类型:
发明专利
专利号:
201610333092.4
公开日期:
2016.08.03
摘要:
一种磷化铟基窄脊波导半导体激光器的制备方法,包括如下步骤:在磷化铟基外延片P面接触层上进行光刻,将光刻版上条形脊波导的图形转移到光刻胶上;以光刻胶为掩膜,腐蚀掉部分磷化铟基外延片上没有被光刻胶保护的P面接触层部分,形成脊形波导;将带有光刻胶的磷化铟基外延片打胶去底膜,在其上溅射一层介质薄膜;剥离脊形波导上的光刻胶和介质薄膜,形成电注入窗口;在磷化铟基外延片正面溅射或蒸发金属,形成P面电极;将磷化铟基外延片的N型衬底减薄、抛光,在N型衬底上蒸发金属,形成N面电极,并合金,形成基片;将基片烧结在热沉上,并引线,完成制备。本发明的工艺简单,产品成品率高。
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