用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法

蔡燕民司徒国海步扬王向朝黄惠杰 · 2015

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专利权人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

通讯地址：

201800上海市嘉定区上海市800－211邮政信箱

专利类型：

发明专利

专利号：

CN104991423A

公开日期：

2015.10.21

摘要：

一种用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法,包括①计算所述的待曝光HDI基板厚度和所述的共轭距可变的光刻投影物镜的物距变化;②根据步骤①得到物距变化对共轭距可变的光刻投影物镜整体沿着光轴方向调整③对HDI基板曝光.本发明没有对物平面控制和像平面(即HDI基板表面)控制提出可动要求,也没有对调焦调平系统和对准系统提出附加的技术要求,减轻了LDI光刻设备系统设计的压力,可以有效的在共轭距变化范围内很好地校正波像差、畸变等,实现良好的成像质量.