原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用

何俊鹏章岳光沈伟东刘旭顾培夫 · 2009

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原子层沉积

光学薄膜

前驱体

光子晶体

期刊名称：

真空科学与技术学报 2009 年 02 期

摘要：

回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究,介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势。着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄膜及复杂结构光子晶体等方面的应用。同时指出了目前ALD工艺在光学薄膜应用中存在的主要问题,并对ALD未来的发展进行了展望。