中频孪生靶磁控溅射沉积氮化锆薄膜的研究(英文)

李新领孙维连周智男邢雅周王会强蒋辉 · 2007

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ZrN薄膜

中频磁控溅射

孪生靶

多层梯度结构

出版社：

电子工业出版社

会议名称：

第八届真空冶金与表面工程学术会议

会议时间：

2007-06-01 00:00:01

会议地点：

中国辽宁沈阳

摘要：

利用中频孪生靶磁控溅射技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢的基底上沉积ZrN薄膜。通过控制N／Ar以及溅射功率和基体偏压等参数,得到不同实验条件的ZrN膜层。通过对膜层颜色测量和AES分析,研究N分压强对ZrN膜层质量的影响。实验结果表明:工作气压 0．3Pa,溅射功率5kW,基体偏压-150V、占空比50％等工艺参数一定的前提下,N分压强在不同的范围内,可以分别制备出视觉效果类似于18K、23K和24K金的氮化锆膜层。并且俄歇分析表明:在薄膜和基底之间存在着多层梯度结构,提高了膜基结合力,改善了膜层性能。