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氮杂异靛青聚合物及其制备方法与应用
于贵
黄剑耀
毛祖攀
高冬
张卫锋
陈智慧
· 2016
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阅读量:212
有机半导体
迁移率
普适性
专利权人:
中国科学院化学研究所
申请人:
中国科学院化学研究所
通讯地址:
中国科学院化学研究所
专利类型:
发明专利
专利号:
CN105384918A
摘要:
本发明公开了一种氮杂异靛青聚合物及其制备方法与应用。该氮杂异靛青聚合物的结构如式Ⅰ所示,其中,R为C
1
~C
60
的直链或支链烷基。本发明还提供了式I所示聚合物的制备方法。本发明的合成路线简单、有效;原料为商业化产品;合成方法具有普适性。以本发明氮杂异靛青聚合物为有机半导体层制备的有机场效应晶体管的迁移率最高超过5cm
2
V
-1
s
-1
,开关比大于10
6
,在有机场效应晶体管器件中有很高的应用前景。
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