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一种碳化硅基复相压敏陶瓷材料及其制备方法
陈健
陈军军
黄政仁
陈忠明
刘学建
· 2016
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阅读量:69
复相
压敏陶瓷
常压烧结
结构陶瓷
第二相
伏安特性
专利权人:
中国科学院上海硅酸盐研究所
申请人:
中国科学院上海硅酸盐研究所
通讯地址:
中国科学院上海硅酸盐研究所
专利类型:
发明专利
专利号:
CN106083058A
摘要:
本发明涉及一种碳化硅基复相压敏陶瓷材料及其制备方法,所述碳化硅基复相压敏陶瓷材料包括碳化硅基体材料和ZrB
2
第二相材料,所述ZrB
2
第二相材料的含量≤18wt%,优选为2~18wt%。综上本发明制备的SiC基复相压敏陶瓷材料通过伏安特性测试,表现为明显的非线性压敏特性。其具有特殊的应用价值,有望作为在超高温、强酸强碱等苛刻环境下运行的电子元件。本发明所述方法为常压烧结,可以制备不同形状和尺寸的结构陶瓷。
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