类金刚石薄膜作为阴极阵列的场发射显示器研制

冯涛茅东升李炜柳襄怀王曦张福民李琼徐静芳诸玉坤 · 2002

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类金刚石薄膜

图形化

场发射显示器

期刊名称：

功能材料与器件学报 2002 年第3期期

发表日期：

2002

摘要：

采用真空磁过滤弧沉积(FAD)的方法制备的类金刚石(DLC)薄膜具有良好的场发射性能.通过离子束技术和微细加工技术可以实现DLC薄膜的图形化并能大大提高薄膜的场发射性能.测试表明,DLC薄膜孔洞阵列具有很好的电子场发射性能,阈值电场达到了2.1V/μM,当场强为14.3V/μM时,电流密度达到了1.23MA/CM2.利用图形化的DLC薄膜作为阴极,设计和制作了矩阵选址单色场发射显示器(FED)样管.

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