• 王友年 ，男 ，1958年出生 ，任职于大连理工大学物理与光电技术学院 ，博士生导师，教授
• 主要研究领域为：离子束及电磁波与物质相互作用、大功率负氢离子源物理、等离子体工艺腔室的多场耦合理论及仿真、射频容性耦合等离子体物理、射频感性耦合等离子体物理

• 2017年，Ar12+离子辐照对金属玻璃和金属钨表面微观结构和性能的影响
• 2017年，Study on atomic layer etching of Si in inductively coupled Ar/Cl2 plasmas driven by tailored bias waveforms
• 2017年，Influence of a centered dielectric tube on inductively coupled plasma source: Chamber structures and plasma characteristics
• 2017年，Fluid simulation of the pulsed bias effect on inductively coupled nitrogen discharges for low-voltage plasma immersion ion implantation
• 2016年，One-dimensional hybrid simulation of the electrical asymmetry effect caused by the fourth-order harmonic in dual-frequency capacitively coupled plasma
• 2016年，Influence of dielectric materials on uniformity of large-area capacitively coupled plasmas for N2/Ar discharges
• 2016年，Influence of dielectric materials on uniformity of large-area capacitively coupled plasmas for N，Chinese Physics B，2016年25卷10期
• 2016年，载能碳团簇在等离子体中的库仑爆炸和能量损失研究
• 2016年，Harmonic plasma waves excitation and structure evolution of intense ion beams in background plasmas，Physics of Plasmas，2016年23卷8期
• 2016年，Experimental Observation and Computational Analysis of Striations in Electronegative Capacitively Coupled Radio-Frequency Plasmas，Physical Review Letters，2016年116卷25期
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• 2017年，一种细长管射频感应耦合等离子体源反应器
• 2017年，提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室
• 2017年，一种细长管射频感应耦合等离子体源反应器
• 2015年，一种减少基片材料受高能离子轰击损伤的方法
• 2015年，一种用于测定等离子体中微量粒子浓度的吸收光谱装置
• 2015年，一种适用于低气压甚高频放电中交变磁场强度测量的探针
• 2015年，一种产生负氢离子机制的等离子体腔室
• 2015年，一种体产生负氢离子机制的等离子体腔室

• 1979--1983，安徽省阜阳师范学院，大学本科，学士学位
• 1983--1986，大连工学院（现大连理工大学），硕士研究生，硕士学位
• 1997.09--1997.12，加拿大Waterloo大学

• 1999-----，《大连理工大学学报》，编委
• 1999-----，《强激光与粒子束》，编委
• 1998-----，中国计算物理学会辽宁分会，副理事长
• 1998-----，中国计算物理学会，理事
• 1994-----，大连理工大学物理系，教授
• 1992-----，中国高等科学技术中心协联，成员
• 1991--1994，大连理工大学物理系，副教授
• 1988--1991，大连理工大学物理系，讲师
• 1986--1988，大连理工大学物理系，助教
• 辽宁省学位委员会第三届学科评议组，成员
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• 2001年，被教育部授予“长江学者特聘教授”荣誉