氧化钴多孔薄膜的电化学制备及其超电容性能
陈金华 孙峰 樊桢 崔坤在 周海晖 旷亚非 · 2007
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期刊名称:
湖南大学学报(自然科学版)   2007 年 06 期
发表日期:
2007
摘要:
采用恒电流沉积方法,以0.2 MOL/L COS04+1.5 MOL/L H2S04为电镀液,在阴极大电流密度下,以氢气泡为模板,在石墨基体上成功制备了COOX·YH2O多孔薄膜.通过扫描电子显微镜、循环伏安法和恒电流充放电技术等对COOX·YH20多孔薄膜的形貌及超电容性能进行表征和研究,并对COOX·YH20多孔薄膜的沉积机理进行了探讨.结果表明:COOX·YH20薄膜呈纳米/亚微米级的多孔结构,随阴极电流密度的增加,薄膜的孔径增大;同时,膜层具有优异的充放电性能和功率特性,比电容达64.8 F·G-1,并具有良好的稳定性.
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