C/W多层膜的制备及其光学特性

王风丽王占山王洪昌吴文娟张众张淑敏秦树基陈玲燕 · 2005

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磁控溅射

期刊名称：

真空科学与技术学报 2005 年第5期期

发表日期：

2005

摘要：

介绍了软X射线波段C/W多层膜的制备和光学性能检测.采用高真空直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制作了C/W多层膜,用X射线衍射(XRD)仪,小角测量方法测试多层膜的光学性能,采用透射电镜(TEM)观测多层膜断层样品的微观结构,并在同步辐射软X射线光束线上,测试了所制备的C/W多层膜样品的反射率,然后对测试结果进行拟合分析.结果表明,所制备的C/W多层膜样品的质量较高,界面清晰,粗糙度小,所有膜层均为无定形态,没有晶相生成,以44.2°入射在5.9 NM处有约6%的反射率.

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