摘要：
对含硅量为8%~12%的ZL系列铸铝合金的微弧氧化工艺条件、膜层结构以及成膜过程进行了研究. 结果表明: 采用不对称交变电压和在以硅酸钠为主要成分的复合电解液体系中, 铸铝合金表面可获得一层性能优异的微弧氧化膜层.电子能谱(EDS)和X射线衍射(XR D)分析结果表明微弧氧化膜主要由AL, SI和O元素组成, 膜的相结构主要为η -AL 2O3, α -AL2O3和SIO2, 并含有γ -AL2O3和MG, W, CU等元素的氧化物. 扫描电镜(SEM)分析表明微弧氧化膜由致密层(内层)和疏松层(外层)构成, 疏松层表面存在许多气孔, 而致密层完整光滑, 具有较高的显微硬度和优异的耐磨耐蚀性能.
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