摘要：
一种基于静电直写的低成本微纳结构刻蚀方法,首先利用计算机设计需刻蚀的二维几何图案,并对图案的轮廓数据和填充数据处理得到挤出喷头与接收平台的相对运动数据;然后通过控制电压、接收距离、流速、温度、湿度等因素将材料液体制备成微/纳米纤维;并通过挤出喷头与接收平台的相对移动实现微/纳米纤维沉积为所需几何图案;通过在带有电纺丝掩膜的基材上制作一层保护层,并去除电纺丝后,得到带有所需几何图案凹槽的基材保护层;以基材保护层为新的掩膜,将基材进行干法或湿法刻蚀,除去保护层后,实现基材的刻蚀,本发明在极大程度上降低基材的微/纳米级图形刻蚀成本,并有效缩短刻蚀时间.
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