基于X射线衍射的GaN薄膜厚度的精确测量

李洪涛罗毅席光义汪莱江洋赵维韩彦军郝智彪孙长征 · 2008

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GAN薄膜

厚度测量

X射线衍射

期刊名称：

物理学报 2008 年 11 期

发表日期：

2008

摘要：

结合WILLIAMSON-HALL PLOT方法和线型分析方法的优点,提出了一种有效分离有限晶粒尺寸和非均匀应力等X射线衍射展宽效应的方法,可以用于GAN外延层厚度等参数的快速精确测量.用该方法对一系列在蓝宝石衬底上生长的厚度在0.7-4.2 μM的GAN外延膜进行了测量,并与椭圆偏振光谱法测量结果进行了比较,结果表明其差别<4%,反应了这种方法的准确性.