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基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统
赵全忠 · 2015
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阅读量：273
LPP-EUV
光源系统
激光源
发生装置
循环装置
专利权人：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人：
中国科学院上海光学精密机械研究所
通讯地址：
中国科学院上海光学精密机械研究所
专利类型：
发明专利
专利号：
CN104914680A
公开日期：
2015.09.16
摘要：
一种基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统,由溶胶发生装置、溶胶喷射-循环装置、LPP-EUV发生装置和泵浦激光源所构成.首先由溶胶发生装置产生溶胶,再经溶胶喷射-循环装置而在LPP-EUV发生装置内形成溶胶射流靶.由泵浦激光源输出泵浦激光,进入LPP-EUV发生装置后作用于溶胶射流靶.本发明基于溶胶射流靶增强LPP-EUV光源的可靠性与稳定性,为EUV光刻系统的高效稳定运行提供有力保障.
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