氧化气氛下铜红花釉的研制

林营杨海波王芬 · 2002

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期刊名称：

佛山陶瓷 2002 年 12 期

摘要：

通过在基础釉中引入SiC及复合还原剂,成功地试制出氧化气氛下1130～1160℃烧成,适合各类艺术瓷装饰的低温慢烧铜红花釉配方;实验研究了复合还原剂影响结果,并且讨论分析了PbO、B2O3等添加剂的作用机理,确定了它们的最佳加入量。