CVD-SiC在不同气氛中的叠加氧化行为

罗茜成来飞栾新刚刘小冲 · 2010

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CVD-SiC

叠加氧化

水氧氧化

期刊名称：

玻璃钢/复合材料 2010 年 02 期

摘要：

采用化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition,CVD)制备了CVD-SiC陶瓷基片并在1500℃空气中进行预氧化处理,对比研究了预氧化前后CVD-SiC分别在1100、1300和1500℃静态水氧耦合环境下的氧化行为。采用扫描电子显微镜和X-射线衍射分析不同叠加氧化温度条件下表面形貌和物相演变规律。结果表明,预氧化后氧化(叠加氧化)和预氧化前氧化(水氧氧化)具有相似的氧化机理,均呈现出典型的抛物线型模式,两者的活化能分别为116kJ/mol和98.9 kJ/mol。