正反欧姆区间伏安特性对镀层均匀性及膜/基结合强度的影响

冯林蒋百灵杨超郝娟张彤晖 · 2016

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磁控溅射离子镀

伏安特性

反欧姆区

离化率

期刊名称：

稀有金属材料与工程 2016 年 09 期

摘要：

将靶材与真空腔之间的伏安特性引入正-反欧姆过渡区间,采用脉冲控制模式研究不同靶电流密度对镀层均匀性和膜/基结合强度的影响规律。实验发现,当靶面放电区电流密度(Id)由0.083 A/cm~2增加至0.175 A/cm~2时,靶电压随靶电流密度的增大呈线性增大关系,与之对应的镀层厚度差由7.984μm增大至14.011μm;但当Id由0.175 A/cm~2增大至0.25 A/cm~2时,靶电压随靶电流密度的增大呈线性减小关系,与之对应的镀层厚度差则由14.011μm减小至10.077μm;而薄膜厚度...