原子层沉积低温制备高取向锐钛矿TiO

原子层沉积低温制备高取向锐钛矿TiO_2薄膜

佘秋明曹良良陈燕宋新山王宇晖宋志棠吴良才 · 2016

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期刊名称：

真空科学与技术学报 2016 年 05 期

摘要：

利用原子层沉积(ALD)法分别在Si和石英衬底上制备了Ti O_2薄膜,并在N2氛围下对Ti O_2薄膜样品进行退火处理。采用X射线衍射、原子力显微镜和场发扫描电子显微镜对不同退火温度下样品晶体结构、表面形貌进行了分析。利用紫外-可见分光光度计对不同退火温度下的Ti O_2薄膜进行了光学性能测试,并分析了退火温度对其光学带隙的影响。发现利用ALD方法制备的沉积态Ti O_2薄膜为高度择优取向的锐钛矿结构;当退火温度升高到600℃时,Ti O_2薄膜晶体结构类型仍为锐钛矿型,晶粒略有变大;退火态Ti ...