EAST等离子体放电真空室暴露大气后的真空恢复研究

万朝余耀伟胡建生龚先祖 · 2016

阅读量：100

壁处理

直流辉光放电清洗

烘烤

托卡马克

期刊名称：

真空 2016 年 05 期

摘要：

洁净的壁条件和良好的真空环境是托克马克装置运行的基本条件,但是真空室暴露大气后会在器壁表面吸附大量的杂质,如何快速恢复良好的真空环境以及壁条件是关系到托克马克运行效率和成本的一个关键问题。本文深入分析了EAST 2015年夏季实验期间真空室两次暴露大气后的壁处理对真空条件的恢复,结果显示水汽是真空室暴露大气后的主要杂质成分,直流辉光和离子回旋放电清洗与第一壁200℃烘烤同时进行能够有效地恢复真空。研究结果还发现暴露大气前的第一壁涂层处理会增强杂质的吸附,需要更长时间的壁处理才能够恢复较好的真空条件。