离子束溅射制备Nb_2O_5、Ta_2O_5和SiO_2薄膜的光学、力学特性和微结构

袁文佳沈伟东郑晓雯杨陈楹章岳光方波沐雯陈超楠刘旭 · 2017

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薄膜

期刊名称：

光学学报 2017 年 12 期

摘要：

研究了离子束溅射(IBS)制备的Nb_2O_5、Ta_2O_5和SiO_2薄膜的光学特性、力学特性以及薄膜微结构,分析了辅助离子源电压对薄膜特性的影响,并将电子束蒸发、离子辅助沉积和IBS制备的薄膜进行了对比。研究结果表明,IBS制备的薄膜具有更好的光学特性和微结构,同时具有较大的压应力、硬度和杨氏模量;辅助离子源可以改善薄膜的光学特性,调节薄膜应力和减小薄膜表面粗糙度,但对硬度和杨氏模量的影响相对较小。在不同的辅助离子源电压下,IBS制备的Nb_2O_5应力为-152~-281 MPa,Ta_2O...