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集成电路器件工艺先导技术研究进展
叶甜春
· 2019
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阅读量:225
鳍式场效应晶体管
CMOS
集成电路器件工艺
期刊名称:
科技导报 2019 年 第37卷 卷 第3期 期
摘要:
中国集成电路技术和产业经过了最新一轮十年的攻关,已经形成了较为系统的布局。分析了国内外集成电路制造技术和产业发展趋势以及中国集成电路制造技术研发布局,概述了22~14 nm节点工艺研发成果、7 nm节点工艺关键技术进展以及5 nm以下节点工艺新结构、新材料技术研发情况。
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