二维双频容性耦合硅烷放电模拟
刘相梅 宋远红 王友年 · 0
收藏
阅读量:46
会议名称:
第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
会议时间:
2009-07-20
会议地点:
中国辽宁大连
摘要:
在等离子体加工过程中产生的尘埃微粒对用于材料处理的气体放电有重要影响,一方面在沉积和刻蚀过程中这些微粒会落到基片上,造成不合格的产品。这已成为当今半导体生产中基片污染的重要原因,许多工作致力于了解尘埃微粒的形成机理、条件、它的行为以及与等离子体的关系等,以达到控制及避免污染的目的;另一方面,这些颗粒的形成和生长为粉末合成及表面改性提供了一种新方法。
相关专家
相关课题