多层膜光栅传递标准样品的抛光技术研究

赵阳程鑫彬李同保 · 2015

阅读量：110

光栅传递标准

粗糙度

抛光

会议名称：

上海市激光学会2015年学术年会

会议时间：

2015-12-16 00:00:01

会议地点：

中国上海

摘要：

多层膜光栅传递标准是计量和表征纳米尺度器件线宽小于50nm的有效工具,光栅样品的制备主要包括镀膜、切割、胶合、抛光和选择性刻蚀。抛光技术对于光栅样品截面的粗糙度有着较大的影响,而粗糙度是影响多层膜光栅能否作为传递标准的一个重要因素。采用不同的抛光方式,利用原子力显微镜(AFM)对其截面进行表征,通过优化抛光技术不断降低截面的粗糙度,制备出了粗糙度小于1nm的样品。