一种具有N缺陷的C3N4材料的制备方法和应用
张铁锐 余慧军 吴骊珠 佟振合 · 2015
收藏
阅读量:96
专利权人:
中国科学院理化技术研究所
申请人:
中国科学院理化技术研究所
通讯地址:
100190北京市海淀区中关村东路29号
专利类型:
发明专利
专利号:
CN104787734A
公开日期:
2015.07.22
摘要:
本发明公开了一种制备具有N缺陷的C3N4的方法,研究了N缺陷对C3N4光催化活性的影响.利用尿素和KOH为前驱体,通过550℃煅烧4h可获得N缺陷的C3N4.通过改变尿素和KOH的比例,可调节产物的N缺陷程度和光催化产氢活性.制备的具有N缺陷的C3N4具有光吸收和光催化活性增强的特点,拓宽了C3N4光吸收范围,提高了其光催化性能,同时简化了其制备方法,为制备高活性的C3N4材料提供了新的途径.此外,该方法通过调节KOH的用量可连续调节产物的能带结构,同时该方法还具有很好的适用性,利用尿素以外的其他物质为原料,比如硫脲或三聚氰胺,或者是利用其它的氢氧化物,通过该方法也都能得到相似的结果.
相关专家
相关课题