Amazing diffusion depth of ultra-thin hafnium oxide film grown on n-type silicon by lower temperature atomic layer deposition

Lu Qihai Huang Rong Lan Xiaoling Chi Xiaowei Lu Chao Li Cheng Wu Zhiguo Li Jun Han Genliang Yan Pengxun · 2016

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期刊名称：

Materials Letters 2016 年 169 卷

发表日期：

2016.04.15

摘要：

Hafnium diffusion from ultra-thin high-k gate dielectric HfO